Исследовательская установка плазменно-электролитического (микродугового) оксидирования

Назначение: предназначена для экспериментальной имитации и отработки режимов / условий формирования многофункциональных поверхностных оксидных (керамических) покрытий, которые по своим комплексным свойствам (твёрдость, износостойкость, коррозионностойкость, теплозащищённость и т.д.) многократно превышают материал, на который наносится покрытие.

Основные технические характеристики:

• Тип источника тока: импульсный инверторный
• Система управления источником тока: автоматическая, программируемая
• Мощность источника питания: 10 кВт
• Частота формовочного напряжения: до 2000 Гц
• Типы формируемых импульсов: однополярный (анодный или катодный) и биполярный (анодно-катодный)
• Соотношение токов в катодном и анодном полупериодах (С/А): от 0,1 до 2,0
• Коэффициент заполнения периода импульсов технологического тока: от 5 до 100 %
• Соотношение длительностей катодного и анодного формовочных импульсов: от 5 до 95%
• Паузы между катодным и анодным импульсом: от 5 до 50 %
• Максимальная частота дискретизации каналов АЦП записи тока и напряжения: 5 МГц
• Динамический диапазон каналов АЦП записи тока и напряжения: ± 5 В (12 бит)
• Система регистрации акустической эмиссии (АЭ): адаптированная для записи АЭ с образца системой защиты канала от высокого напряжения
• Максимальная частота дискретизации АЦП записи АЭ: 5 МГц
• Динамический диапазон АЦП записи АЭ: ± 2 В (12 бит)
• Система охлаждения электролита: внешняя, жидкостная по замкнутому контуру
• Материал ванн: нержавеющая сталь