Установка ионного травления Hitachi IM4000 Plus

Назначение: предназначена для очистки и получения плоских полированных поверхностей образцов или их срезов для проведения оптической / электронной микроскопии или других исследований за счет воздействия на поверхность широким пучком ускоренных ионов с целью исключения силового воздействия на исследуемую поверхность и ее механического повреждения. Также поддерживает прерывистый режим травления для отвода тепла для возможности подготовки термочувствительных материалов.

Основные технические характеристики:

• Максимальная скорость обработки: до 20µм/ч (для Cu)
• Углы установки образца: 0 – 90°
• Максимальный размер и вес образца: ø50 х 25 мм / 430 г
• Рабочая среда: аргон (99,99%)
• Давление / объем подачи рабочей среды: 0,03 – 0,5 МПа / до 1 см^3/мин
• Рабочее напряжение и ток ионной пушки: 0-1,5 кВ / 0-560 мкА
• Ускоряющее напряжение ионной пушки: 0-6,0 кВ
• Режим работы ионной пушки: постоянный / импульсный
• Режим управления работой: автоматический
• Режимы обработки образца: стационарный; с вращением 360° (1 и 25 об/мин); с качанием ± 60 ° (1,5 и 15 колебаний/мин); с качанием ± 90 ° (1 и 10 колебаний/мин)
• Вакуумный насос: двухступенчатый пластинчато-роторный насос (0,4 кВт, 1700 об/мин)
• Скорость вакуумирования: 162 л/мин
• Предельный вакуум с открытым / закрытым газобалластом: 6,7 / 0,26 Па
• Условия работы: 15-30 °С / 45-85 %